可見光衰減片
注:以上參數(shù)僅供參考，可見光衰減片參數(shù)指標請咨詢我公司的在線客服人員或致電我公司。可見光衰減片光學指標：截止波段：400~700nm@T=0.001%，0.01%，0.1%，1%，10%，20%，30%，40%，50%，60%，70%，80%，90%。
相關(guān)名詞解釋
可見光衰減片應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)療設(shè)備光探測器、臨床生化分析設(shè)備、化學檢測設(shè)備、各種光學儀器設(shè)備、電子學顯像系統(tǒng)、紫外測量儀器、各種激光器、光學數(shù)碼照相機、攝像機、安防監(jiān)控攝像機、光通訊衰減濾波器。
使用注意事項：
1.使用時請戴好手指套，不要用手指直接觸碰可見光衰減片表面，以免殘留的手指影響中性密度濾光片通光效果。
2.如可見光衰減片表面臟時，可用無塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭，否則會損壞可見光衰減片表面。
3.檢查光路各調(diào)整光軸時，請一定做好相應(yīng)的防護。
4.如果用了可見光衰減片后系統(tǒng)效果還是不好，請把詳細光路系統(tǒng)告訴我們，我們來幫您分析原因，讓您少走很多冤枉路。（當然，我們會對客戶的方案保密，盡可放心！和客戶一起成長是我們不變的宗旨）。
可見光衰減片的方法有很多種，包括電鍍、化學鍍，真空蒸發(fā)鍍以及磁控 濺射鍍膜法。
工業(yè)化生產(chǎn)中人們既關(guān)心產(chǎn)品的綜合性能又要考慮制備成本，在 以上制備方法中化學鍍膜工藝流程簡單，成本低廉，且操作簡便，因此受到人 們的重視，但該方法會產(chǎn)生廢液，污染環(huán)境；磁控濺射鍍膜工藝技術(shù)先進， 制備的薄膜具有質(zhì)量保證，是目前廣泛應(yīng)用的一種制備手段，相比于其他方 法，磁控濺射鍍膜具有成膜速率高，基片溫度低，膜粘附性好等鍍膜優(yōu)點，而 且對環(huán)境無污染，適合低碳要求，是一種綠色制造技術(shù)，是最有發(fā)展前景的表 面涂覆技術(shù)之一 。
從市場需求的角度看，滿足光衰減器小型集成化、系列 化的發(fā)展，但其使用設(shè)備儀器復雜，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相 對較高 。
基于產(chǎn)品性價比的考慮，有必要對化學鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進行綜合分析和對比，進而研究工藝參數(shù)對 Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結(jié)構(gòu)、三維結(jié)構(gòu)、粗糙度以及對光衰減率的影響，通過調(diào)節(jié)工藝 參數(shù)來獲得具有不同光衰減率的光衰減片，從而滿足人們對不同膜系功能的需 求。
800nm短波通濾光片
中心波長：800+/-5nm透過波段：350-790nm截止波長：810-1100nm峰值透過率 ：>90%( 按客戶需求）產(chǎn)品尺寸 ：( 按客戶需求 )截止深度 ：>OD4-OD6 UV-NIR產(chǎn)品材質(zhì) ：光學級別類玻璃（ K9,BK7,B27…
LP780nm長波通濾光片
光學指標： 透過波段：785nm-1100nm最低透過率：T>88% 中心波長:780nm±3 截止波段：400nm-750nm
850nm窄帶濾光片
尺寸：1x1mm~80x80mm或φ4~79mm厚度：0.4-1.1mm中心波長：850nm峰值透射率：T>85%半帶寬：20~40nm
LP460nm長波通濾光片
光學指標：中心波長：460±5nm透過波長：465nm-1200nm平均透過率：T>90%截止波段：350nm-455nm
